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一种全息双闪耀光栅的制作方法[发明专利]

来源:独旅网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种全息双闪耀光栅的制作方法专利类型:发明专利发明人:刘全,吴建宏,陈明辉申请号:CN201110318711.X申请日:20111019公开号:CN102323635A公开日:20120118

摘要:本发明是一种全息双闪耀光栅的制作方法,所述全息双闪耀光栅的两个闪耀角分别是A闪耀角和B闪耀角,通过先在基片上制作A、B两种同质光栅,以该两种同质光栅为掩模,进行斜向离子束刻蚀得到所需的A、B闪耀光栅。由于在制作同质光栅时,可以通过控制正向离子束刻蚀的时间以及增加灰化工艺,使同质光栅的占宽比、槽深和槽型得到精确控制,另外由于同质光栅掩模和基片是同一种材质形成,两者的刻蚀速率始终保持一致,因此可以实现闪耀角的精确控制。

申请人:苏州大学

地址:215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号

国籍:CN

代理机构:北京集佳知识产权代理有限公司

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